美國(guó)東北大學(xué)科學(xué)家主導(dǎo)的國(guó)際科研團(tuán)隊(duì)發(fā)現(xiàn)了一種新形式的高密度硅,并開發(fā)出一種新型可擴(kuò)展的無(wú)催化劑蝕刻技術(shù),,能將這種硅制成直徑為2~5納米的超窄硅納米線。這一成果發(fā)表于最新一期《自然·通訊》雜志,有望給半導(dǎo)體行業(yè)帶來(lái)革命性變化,,還有望應(yīng)用于量子計(jì)算等領(lǐng)域,。
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